①研磨液/化学品稀释供应系统
这是一个将超纯水与研磨液原浆＋添加剂（H2O2）等在进入CMP设备前直接调配并供应的装置。（多液混合）
可轻易改变的液体浓度，即使是供应过程中也可以进行更改。不必担心保质期、劣化等问题，供应PureSlurry。
②全自动储罐柜系统（D/C自动装置）
实现了完全自动化的储罐更换和供应，解决了传统手动更换储罐作业中出现的问题（如桶的掉落、倾倒、设置错误和化学品浪费）。
通过24小时的储罐自动更换，实现稳定的原液供应，从而降低储罐更换带来的成本和时间损失，提高运行效率。

我们提供在以In-Line Mixing为特性的NYS研磨液/化学品供应系统上，集成高精度、高倍稀释调配系统、
LPC Monitor和Chemical Monitor的方案。

通过集成具有实验室分析设备相同精度的LPC测量仪和化学浓度测量仪，并进行趋势管理，
从而抑制由于供应的研磨液/化学品引起的故障，实现更高精度的浓度控制。

UNISEM是韩国最具代表性的半导体/液晶工艺废气净化设备/冷却器制造商。
在废气净化设备方面，拥有Burn-wet式、Plasma式等多种产品线，并在国内芯片厂商中有超过500台的交付业绩。
随着台数的增加，西村化工加强了与UNISEM的合作，作为国内窗口，承担了从安装、保养维护、到售后故障排除的职责。

韩国的真空设备制造商LOT VACUUM是专注于半导体/液晶/太阳能领域的干式真空泵制造商。
由于半导体和液晶面板的前段工序多在真空状态下进行，需要通过真空泵将一定空间内包含气体在内的物质吸出以创造真空状态。
该公司的泵采用螺杆（Screw）方式，在相同形状的螺旋耦合旋转时吸入和排出气体，
与其他公司使用的根（Roots）泵相比，部件数量较少且排气量更高，这是其优势所在。

这是一个安装在泵的前端部分（真空管道）上，将有毒/易燃气体处理为安全气体的系统。
在管道PM时，为了防止因ZrO、HfO、TiO等工艺副产物引起的发热、起火、爆炸等问题，
从环境安全的角度，该工艺被广泛采用。

特征
将有毒/易燃气体改质为安全气体
将副产物分解并排放
将副产物的颗粒尺寸最小化
延长泵的MTBF（减少维护成本）

SEMI-TS自2014年创立之初，便开始了在半导体制造过程中不可或缺的AMHS解决方案的业务。
公司从事300mm FAB的洁净传送带、E84传感器业务、智能清扫系统和Smart OHT的开发等业务。

激光加工用水溶性保护膜
激光加工用水溶性保护膜是一种水性聚合物溶液，通过在激光加工面上进行旋涂，
大幅减少碎屑附着，有助于提高芯片加工的可靠性。

切割添加剂
切割添加剂是一种水性聚合物溶液，可快速分散切割过程中产生的晶圆碎片，
防止碎片堆积在晶圆表面，从而减少腐蚀和污染问题。

为了实现高性能且低成本的SWIR图像传感器，
我们提供支持图像传感器或传感器材料及半导体制造的量子点产品和技术服务。
与现有的SWIR技术相比，大幅降低了成本，将为未来的SWIR产品市场带来变革。